光譜分析儀工作原理
光譜分析儀，是一種用于測量發(fā)光體的輻射光譜，即發(fā)光體本身的指標參數(shù)的儀器。光譜分析儀的分析原理是將光源輻射出的待測元素的特征光譜通過樣品的蒸汽中待測元素的基態(tài)原子所吸收，由發(fā)射光譜被減弱的程度，進而求得樣品中待測元素的含量，它符合郎珀-比爾定律A=-lgI/Io=-LgT=KCL式中I為透射光強度，I0為發(fā)射光強度，T為透射比，L為光通過原子化器光程由于L是不變值所以A=KC。
光譜分析儀物理原理
任何元素的原子都是由原子核和繞核運動的電子組成的，原子核外電子按其能量的高低分層分布而形成不同的能級，因此，一個原子核可以具有多種能級狀態(tài)。能量的能級狀態(tài)稱為基態(tài)能級(E0=0)，其余能級稱為激發(fā)態(tài)能級，而能的激發(fā)態(tài)則稱為激發(fā)態(tài)。正常情況下，原子處于基態(tài)，核外電子在各自能量的軌道上運動。如果將一定外界能量如光能提供給該基態(tài)原子，當外界光能量E恰好等于該基態(tài)原子中基態(tài)和某一較高能級之間的能級差E時，該原子將吸收這一特征波長的光，外層電子由基態(tài)躍遷到相應(yīng)的激發(fā)態(tài)，而產(chǎn)生原子吸收光譜。

采用CMOS檢測器全譜測試技術(shù),可測試覆蓋波長范圍內(nèi)的所有譜線，配置和補充測試基體、通道、分析程序極為方便。儀器體積小巧，方便維護和實驗室放置。OES8000s是全面測試鋼鐵和有色金屬材料元素的通用型儀器，可以滿足包括：Fe基體、Cu基體、Al基體、Ti基體、Pb基體、

Mg基體、Co基體等基體要求，是金屬元素分析的優(yōu)選擇。

全譜分析技術(shù)，方便配置更多基體和元素，方便在用戶現(xiàn)場補充配置

儀器體積小巧，對實驗室空間要求低

全天候工作，具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可靠性

樣品測試速度快，單次測試過程少于40秒

儀器使用和維護簡單、方便，對人員專業(yè)要求低

原廠安裝分析程序，測試數(shù)據(jù)，適用合齊全

配置標準化樣品可對儀器進行周期性校正

不使用化學試劑，測試過程安全、環(huán)保

 

技術(shù)優(yōu)勢

天瑞直讀光譜儀OES8000s廣泛應(yīng)用于鋼鐵及有色金屬產(chǎn)品元素分析，快速、、穩(wěn)定、可靠測試幾十種元素，滿足工業(yè)研發(fā)、工藝控制、進料檢驗、產(chǎn)品分選多方面檢驗需求，是生產(chǎn)優(yōu)質(zhì)金屬產(chǎn)品的*設(shè)備。

全譜檢測全面測試各種金屬和元素

基于CCD檢測器全譜測試技術(shù)，全面測試各種金屬中元素的譜線，方便實現(xiàn)多基體、多元素的測試。

配置和補充測試基體、通道、分析程序極為方便，方便交貨后在客戶處補充測試元素、分析程序。

 

國際供應(yīng)商提供核心部件

光譜色散元件——光柵由德國Zeiss/法國JY公司制造，保證優(yōu)異的光譜分辨能力

光譜檢測器——COMS探測器由日本濱松制造，確保譜線檢測靈敏、低噪聲

 

光室恒溫系統(tǒng)

光室恒溫腔體內(nèi)配置反饋式加熱裝置和高效隔溫層，有效保證光室內(nèi)恒溫。

由此抑制溫度變化下機械件尺寸微弱變化導致的光路漂移。除特殊維護，平時保養(yǎng)一般不需進行描跡。

同時檢測器工作在恒溫環(huán)境有助于光電轉(zhuǎn)換性能的穩(wěn)定。

 

快速同時分析鋼鐵、有色金屬材料中多種元素

將已預(yù)處理樣品置于樣品臺后，OES8000s可在至多40秒內(nèi)呈現(xiàn)測試結(jié)果。

可根據(jù)客戶需求，測試幾乎所有鋼鐵、有色金屬材料中常見元素含量。

 

專業(yè)的測試方案

長期測試技術(shù)服務(wù)的積淀，天瑞儀器為鋼鐵、有色金屬材料分析用戶提供成熟的測試方案。

測試方案采用針對材料元素含量分類的分析程序，滿足用戶各類常見測試需求。

分析程序由原廠采用國際、標準樣品校準，經(jīng)專業(yè)儀器軟件擬合、校正。

用戶只需采用原廠配置少量標準化樣品即可完成日常維護，不需購買大量制作分析程序的標準樣品。

 

工作條件

工作溫度：15-30℃

相對濕度：≤70

電    源：220±5V，單相50Hz，接地電阻＜1Ω

實驗室無震動、粉塵、強電磁干擾、強氣流、腐蝕性氣體

光譜分析儀的分析原理是將光源輻射出的待測元素的特征光譜通過樣品的蒸汽中待測元素的基態(tài)原子所吸收，由發(fā)射光譜被減弱的程度，進而求得樣品中待測元素的含量。


任何元素的原子都是由原子核和繞核運動的電子組成的，原子核外電子按其能量的高低分層分布而形成不同的能級，因此，一個原子核可以具有多種能級狀態(tài)。能量低的能級狀態(tài)稱為基態(tài)能級（E0=0），其余能級稱為激發(fā)態(tài)能級，而能低的激發(fā)態(tài)則稱為激發(fā)態(tài)。正常情況下，原子處于基態(tài)，核外電子在各自能量低的軌道上運動。如果將一定外界能量如光能提供給該基態(tài)原子，當外界光能量E恰好等于該基態(tài)原子中基態(tài)和某一較高能級之間的能級差E時，該原子將吸收這一特征波長的光，外層電子由基態(tài)躍遷到相應(yīng)的激發(fā)態(tài)，而產(chǎn)生原子吸收光譜。電子躍遷到較高能級以后處于激發(fā)態(tài)，但激發(fā)態(tài)電子是不穩(wěn)定的，大約經(jīng)過10^-8秒以后，激發(fā)態(tài)電子將返回基態(tài)或其它較低能級，并將電子躍遷時所吸收的能量以光的形式釋放出去，這個過程稱原子發(fā)射光譜。可見原子吸收光譜過程吸收輻射能量，而原子發(fā)射光譜過程則釋放輻射能量。
光譜分析就是從識別這些元素的特征光譜來鑒別元素的存在(定性分析)，而這些光譜線的強度又與試樣中該元素的含量有關(guān)，因此又可利用這些譜線的強度來測定元素的含量(定量分析)。這就是發(fā)射光譜分析的基本依據(jù)。

技術(shù)性能及指標

1.   分光室設(shè)計

  帕邢-龍格結(jié)構(gòu),羅蘭圓直徑400mm

  波長范圍140 – 680nm

  像素分辨率10pm

  恒溫33℃±0.2℃

  特殊材質(zhì)鑄造，保證光室形變小

  間歇式真空系統(tǒng)，可保證真空泵運行時間小于5

2.   凹面光柵

  刻線密度3600l/mm

  一級光譜線色散率：1.04 nm/mm

3.   檢測器

  高性能線陣CMOS

4.   分析時間

  依樣品種類而不同，一般少于40秒

5.   激發(fā)光源

  全數(shù)字等離子火花光源技術(shù)

  高能預(yù)燃技術(shù) (HEPS)

  頻率100-1000Hz

  電流1-80A

6.   激發(fā)臺

  3mm樣品臺分析間隙

  噴射電極技術(shù)

  特殊設(shè)計的氣路系統(tǒng)，保證氬氣消耗

7.   尺寸和重量

  高450mm 長900mm 寬600 mm

  120 kg

8.   功率

  功率0W

  待機功率70W
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